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頂立科技參加第五屆SiC半導體用炭材料技術(shù)研討會(huì )

發(fā)布時(shí)間:2024-04-26發(fā)布人:瀏覽: 次
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頂立科技參加第五屆SiC半導體用炭材料技術(shù)研討會(huì ) (1).jpg

頂立科技參加第五屆SiC半導體用炭材料技術(shù)研討會(huì ) (4).jpg

4月26日,由平度市人民政府、中國科學(xué)院山西煤炭化學(xué)研究所、石墨邦等單位聯(lián)合舉辦的“第五屆SiC半導體用炭材料技術(shù)研討會(huì )”在青島舉行。

頂立科技董事長(cháng)戴煜博士在會(huì )上作“面向半導體材料領(lǐng)域的特種熱工裝備技術(shù)現狀及趨勢”報告,分享頂立科技針對半導體核心原材料及零部件制造所研發(fā)的化學(xué)氣相沉積、高溫燒結/石墨化/純化等一系列熱工裝備的關(guān)鍵技術(shù)及應用案例。

碳化硅/氧化鋁/氮化鋁燒結爐

碳化硅/氧化鋁/氮化鋁燒結爐

化學(xué)氣相涂層爐

化學(xué)氣相涂層爐

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